（中央社記者張建中新竹8日電）傳載方案商家登精密今天宣布，新世代的高數值孔徑極紫外光光罩盒（High-NA EUV POD）已通過微影技術龍頭廠艾司摩爾（ASML）認證，將會與現有EUV POD版本搭配使用，同步為客戶先進製程採用。

家登今天發布新聞稿表示，隨著半導體製程技術不斷推進，旗下EUV POD和RSP-200系列透明視窗的光罩傳送盒出貨量不斷增加；尤其關鍵客戶先進製程訂單暢旺，EUV POD和RSP-200產品需求可望持續增長。

家登指出，台灣、亞洲和美國的關鍵客戶競逐2奈米製程，已投入High-NA EUV布局，有機會在明年逐步採用High-NA EUV機台投產。

家登表示，旗下High-NA EUV POD已通過ASML認證，將會與現有EUV POD版本搭配使用，同步為客戶先進製程所採用。家登光罩載具全系列產品均可匹配ASML不同機種的曝光機，伴隨製程技術不斷推進，可望帶動EUV相關產品銷售成長。

因應地緣政治風險，家登指出，在美國設有倉儲、專責業務、研發和技術服務團隊，並規劃於2025年在日本久留米建廠，大中華地區現有昆山廠及重慶廠兩座生產基地已穩定投產，應可符合全球關鍵客戶在地供應的需求。

家登自結10月營收新台幣3.89億元，呈月減、年減態勢，家登表示，主要是因集團進行SAP系統升級作業，全球客戶出貨暫停10天影響，11月將積極出貨，全年營運表現不受影響。（編輯：張均懋）1131108