（中央社記者楊淑閔台北18日電）環保署今天預告「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」修正草案，以「個別排放管道濃度標準」取代「全廠排放量」的管制方式，讓管理效率提升，並促進業者革新設備。

環保署今天預告「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」修正草案及「公私場所應定期檢測及申報之固定污染源」修正草案。環保署說明，預告期為60天，以務實、自主、簡化三大重點進行研修，期望6月以前公告施行。

環保署空氣品質保護及噪音管制處處長蔡孟裕指出，半導體製造業等高科技產業蓬勃發展，廠房規模愈來愈大，草案內容修正管制方式，訂定「個別排放管道濃度標準」，擬取代現行「全廠排放量」的管制方式，這對不同規模的半導體製造廠來說會更合理，原本的管制方式對大廠來說太嚴，對小廠來說太鬆。

蔡孟裕說明，現行檢測管制採行「全廠排放量」時，作業時必須檢測自然對數的排放管數量（會大過1根）；採行新制「個別排放管道濃度標準」則僅檢測1根，但是執行新制有前提、要件，必須機台的型式、規模、製程等一樣，而這麼做可以省去不必要的人力浪費，讓管理提高效率、更具彈性。

他並說，不過要一直採行新制方式檢測的話，這1根排放管的檢測結果，處理效能須提高3%或是低於排放標準一半以上，才能繼續採行「個別排放管道濃度標準」方式進行管制，如此一來，也能導引業者在新建廠房或新設製程時，應選擇污染排放較低或防制效能較佳的設備，否則回歸「全廠排放量」方式進行管制。

另外，環保署也預告「公私場所應定期檢測及申報之固定污染源」修正草案，修正相關附表，簡化整合空污法涉及的檢測相關規定，並針對排放濃度高且易導致污染之虞者，規範應設置相關排放監測器，藉此強化自主管理。（編輯：陳政偉）1120218